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研磨塌边

双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 - 豆丁网

2011年3月21日因此，要获得达到面质量要求的器件必须有超精密的机床和合适的抛光工艺。本文对超精密双面研磨抛光工件产生塌边的各种因素进行了比较分件加工效率双面研磨双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 - 豆丁网2011年3月21日因此，要获得达到面质量要求的器件必须有超精密的机床和合适的抛光工艺。本文对超精密双面研磨抛光工件产生塌边的各种因素进行了比较分件加工效率双面研磨

双面研磨技术研究现状与发展趋势磨料机床玻璃世纪研磨机 ...

6 天之前塌边现象是研磨中较为常见的问题，而双面研磨工艺与传统的研磨工艺加工原理相似，因此，加工后的工件同样存在塌边的现象，针对塌边现象的形成机理，国内外学者双面研磨技术研究现状与发展趋势磨料机床玻璃世纪研磨机 ...6 天之前塌边现象是研磨中较为常见的问题，而双面研磨工艺与传统的研磨工艺加工原理相似，因此，加工后的工件同样存在塌边的现象，针对塌边现象的形成机理，国内外学者

双面研磨抛光中工件表面"塌边现象"的研究 - 百度学术

本文对双面研磨抛光中工件"塌边"这一问题进行研究,分析造成工件表面"塌边"的各种因素,以及相应解决方法,对进一步提高双面研磨抛光加工质量具有重大意义。双面研磨抛光中工件表面"塌边现象"的研究 - 百度学术本文对双面研磨抛光中工件"塌边"这一问题进行研究,分析造成工件表面"塌边"的各种因素,以及相应解决方法,对进一步提高双面研磨抛光加工质量具有重大意义。

一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法 [发明专利]

2019年4月2日一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法，属于机械研磨抛光加工技术领域。本发明在零件非加工面上胶接与非加工面形状相同的外边框结构，通过外边一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法 [发明专利]2019年4月2日一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法，属于机械研磨抛光加工技术领域。本发明在零件非加工面上胶接与非加工面形状相同的外边框结构，通过外边

一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法与流程

2019年4月3日利用机械研磨抛光过程中减小塌边现象的方法，能够显著地减小塌边现象，能够获得更好的平坦化效果。同时，胶环和外边框易去除，去除后能够获得塌边现象不明显的平面。一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法与流程2019年4月3日利用机械研磨抛光过程中减小塌边现象的方法，能够显著地减小塌边现象，能够获得更好的平坦化效果。同时，胶环和外边框易去除，去除后能够获得塌边现象不明显的平面。

双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 Semantic Scholar

本文对双面研磨抛光中工件“塌边”这一问题进行研究,分析造成工件表面“塌边”的各种因素,以及相应解决方法,对进一步提高双面研磨抛光加工质量具有重大意义。双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 Semantic Scholar本文对双面研磨抛光中工件“塌边”这一问题进行研究,分析造成工件表面“塌边”的各种因素,以及相应解决方法,对进一步提高双面研磨抛光加工质量具有重大意义。

双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 Research on the ...

本文对双面研磨抛光中工件"塌边"这一问题进行研究,分析造成工件表面"塌边"的各种因素,以及相应解决方法,对进一步提高双面研磨抛光加工质量具有重大意义。双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 Research on the ...本文对双面研磨抛光中工件"塌边"这一问题进行研究,分析造成工件表面"塌边"的各种因素,以及相应解决方法,对进一步提高双面研磨抛光加工质量具有重大意义。

环形抛光中方形元件塌角控制方法的理论分析

2020年5月12日摘要全口径环形抛光中方形元件的材料去除率存在从中心到边角位置越来越大的现象,致使抛光工件出现塌角的面形,影响了方形光学元件的面形质量.基于Preston方环形抛光中方形元件塌角控制方法的理论分析2020年5月12日摘要全口径环形抛光中方形元件的材料去除率存在从中心到边角位置越来越大的现象,致使抛光工件出现塌角的面形,影响了方形光学元件的面形质量.基于Preston方

双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 - 道客巴巴

2017年9月2日该文档贡献者很忙，什么也没留下。双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 - 道客巴巴2017年9月2日该文档贡献者很忙，什么也没留下。

一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法与流程

2019年4月3日本发明属于机械研磨抛光加工技术领域，涉及一种减小机械研磨抛光塌边现象的方法。背景技术机械研磨和抛光工艺是获得局部和全局平坦化的最有效办法之一，在硬脆材料、金属材料的平面构件加工中应一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法与流程2019年4月3日本发明属于机械研磨抛光加工技术领域，涉及一种减小机械研磨抛光塌边现象的方法。背景技术机械研磨和抛光工艺是获得局部和全局平坦化的最有效办法之一，在硬脆材料、金属材料的平面构件加工中应

硅片加工缺陷的分类及解读

2022年1月21日塌边是抛光工艺中，在硅片边缘区域形成的斜坡状加工缺陷。产生原因由于抛光布太软，抛光速度过慢，抛光时间过长以及抛光前的化学腐蚀边缘减薄量较多等因素，在酸腐蚀工艺中，边缘腐蚀过快也容易造成塌边。硅片加工缺陷的分类及解读2022年1月21日塌边是抛光工艺中，在硅片边缘区域形成的斜坡状加工缺陷。产生原因由于抛光布太软，抛光速度过慢，抛光时间过长以及抛光前的化学腐蚀边缘减薄量较多等因素，在酸腐蚀工艺中，边缘腐蚀过快也容易造成塌边。

双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 - 道客巴巴

2017年9月2日该文档贡献者很忙，什么也没留下。双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 - 道客巴巴2017年9月2日该文档贡献者很忙，什么也没留下。

双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 Research on the ...

但是在双面研磨抛光加工中工件存在"塌边现象",这导致工件的表面平整度变差。本文对双面研磨抛光中工件"塌边"这一问题进行研究,分析造成工件表面"塌边"的各种因素,以及相应解决方法,对进一步提高双面研磨抛光加工质量具有重大意义。关键词：双面研磨抛光中工件表面“塌边现象”的研究 Research on the ...但是在双面研磨抛光加工中工件存在"塌边现象",这导致工件的表面平整度变差。本文对双面研磨抛光中工件"塌边"这一问题进行研究,分析造成工件表面"塌边"的各种因素,以及相应解决方法,对进一步提高双面研磨抛光加工质量具有重大意义。关键词：

一种机械研磨或抛光过程中抑制边缘效应的方法与流程

2019年4月17日第六步，对工件进行双面研磨，研磨时间为第五步中计算的时间，研磨过程中，塌边区域4即边缘以内的4mm 环带时刻有区域完全露出。第七步，测量形貌数据中，发现边缘效应得到抑制。图1为抑制边缘效应方法的流程图；图2和图3为本实施例中 ... 一种机械研磨或抛光过程中抑制边缘效应的方法与流程2019年4月17日第六步，对工件进行双面研磨，研磨时间为第五步中计算的时间，研磨过程中，塌边区域4即边缘以内的4mm 环带时刻有区域完全露出。第七步，测量形貌数据中，发现边缘效应得到抑制。图1为抑制边缘效应方法的流程图；图2和图3为本实施例中 ...

抛光塌边产生的原因 - 百度文库

一、抛光压力不均匀. 抛光塌边的原因之一是抛光压力不均匀。. 在抛光过程中，如果使用的抛光机械设备或手动操作不当，容易造成抛光压力在不同部位不均匀分布。. 这会导致一些部位的金属被过度抛光，而其他部位则未能得到足够的抛光，从而形成塌边现象 ... 抛光塌边产生的原因 - 百度文库一、抛光压力不均匀. 抛光塌边的原因之一是抛光压力不均匀。. 在抛光过程中，如果使用的抛光机械设备或手动操作不当，容易造成抛光压力在不同部位不均匀分布。. 这会导致一些部位的金属被过度抛光，而其他部位则未能得到足够的抛光，从而形成塌边现象 ...

晶圆研磨过程中发生破损问题的分析与解决方法技术分享 ...

2021年8月26日在晶圆研磨过程中，会有许多造成晶圆破碎的因素存在，如何减小破损产生的机率，需要从现象出发去寻找原因。. 晶圆破碎的几种形式. 1、沿磨痕方向碎裂。. “磨痕”指的就是晶圆片背面的磨痕。. 这种类型的破损发生在这个磨痕上。. 2、沿晶圆纹路碎裂 ... 晶圆研磨过程中发生破损问题的分析与解决方法技术分享 ...2021年8月26日在晶圆研磨过程中，会有许多造成晶圆破碎的因素存在，如何减小破损产生的机率，需要从现象出发去寻找原因。. 晶圆破碎的几种形式. 1、沿磨痕方向碎裂。. “磨痕”指的就是晶圆片背面的磨痕。. 这种类型的破损发生在这个磨痕上。. 2、沿晶圆纹路碎裂 ...

双面研磨抛光中工件表面"塌边现象"的研究 - 钛学术文献服务平台

“双面研磨抛光中工件表面"塌边现象"的研究”出自《新技术新工艺》期刊2010年第2 期文献，主题关键词涉及有平整度、双面研磨抛光、形状精度、塌边等。钛学术提供该文献下载服务。钛学术文献服务平台学术出版新技术应用与公共服务实验室出品 ... 双面研磨抛光中工件表面"塌边现象"的研究 - 钛学术文献服务平台“双面研磨抛光中工件表面"塌边现象"的研究”出自《新技术新工艺》期刊2010年第2 期文献，主题关键词涉及有平整度、双面研磨抛光、形状精度、塌边等。钛学术提供该文献下载服务。钛学术文献服务平台学术出版新技术应用与公共服务实验室出品 ...

半导体晶片及其制造方法-CN103493184B - 专利顾如 ...

2012年4月3日本专利由信越半导体股份有限公司申请，2016-03-30公开，本发明提供一种半导体晶片，其在研磨时于外周形成有塌边，其特征在于，在前述半导体晶片的中心与外周塌边开始位置之间，前述半导体晶片的厚度方向的位移量是100nm以下，且前述半导体晶片的...专利查询、专利下载就上专利顾如半导体晶片及其制造方法-CN103493184B - 专利顾如 ...2012年4月3日本专利由信越半导体股份有限公司申请，2016-03-30公开，本发明提供一种半导体晶片，其在研磨时于外周形成有塌边，其特征在于，在前述半导体晶片的中心与外周塌边开始位置之间，前述半导体晶片的厚度方向的位移量是100nm以下，且前述半导体晶片的...专利查询、专利下载就上专利顾如

超精密平面研磨机应用领域_百度文库

下研磨盘涂抹人造金刚石研磨膏,并用蒸馏水稀释,在研磨过程中工件中心的研磨膏不断地被挤出来,最终导致四周低中间高的“塌边”现象。由 Veeco RTI6100激光干涉仪测得塌边量达5.87µm,而且研磨时间越长塌边越严重。超精密平面研磨机应用领域_百度文库下研磨盘涂抹人造金刚石研磨膏,并用蒸馏水稀释,在研磨过程中工件中心的研磨膏不断地被挤出来,最终导致四周低中间高的“塌边”现象。由 Veeco RTI6100激光干涉仪测得塌边量达5.87µm,而且研磨时间越长塌边越严重。

一种机械研磨或抛光过程中抑制边缘效应的方法_百度文库

2019年4月16日本发明属于机械研磨抛光加工技术领域，提供一种机械研磨或抛光过程中抑制边缘效应的方法，在研磨盘装夹之后对其进行修整，将内外圈修整为有坡度的表面，从而控制边缘部分的材料去除，实现减小塌边的目的。. 具体步骤为：首先，将平面零件在修整好的 ... 一种机械研磨或抛光过程中抑制边缘效应的方法_百度文库2019年4月16日本发明属于机械研磨抛光加工技术领域，提供一种机械研磨或抛光过程中抑制边缘效应的方法，在研磨盘装夹之后对其进行修整，将内外圈修整为有坡度的表面，从而控制边缘部分的材料去除，实现减小塌边的目的。. 具体步骤为：首先，将平面零件在修整好的 ...

环形抛光中方形元件塌角控制方法的理论分析

2020年5月12日 1 引言. 大口径高精度光学元件在空间光学、高功率激光装置中有广泛应用,环形抛光(以下简称“环抛”)因去除效率高和全频谱收敛而成为加工大口径光学元件的重要方式之一. 目前,采用环抛加工大口径光学元件很大程度上仍依赖于操作人员的经验,缺乏有效的 ... 环形抛光中方形元件塌角控制方法的理论分析2020年5月12日 1 引言. 大口径高精度光学元件在空间光学、高功率激光装置中有广泛应用,环形抛光(以下简称“环抛”)因去除效率高和全频谱收敛而成为加工大口径光学元件的重要方式之一. 目前,采用环抛加工大口径光学元件很大程度上仍依赖于操作人员的经验,缺乏有效的 ...

一种防塌边平面研磨工装的制作方法 - X技术网

2023年11月17日本技术涉及工装治具，尤其涉及一种防塌边平面研磨工装。背景技术： 1、随着生活质量的不断提高，人们对电子产品的要求也在不断提高，其中不仅有功能上的要求，还有在外观上的要求。现有技术中，部分电子产品会存在盖板类的零件，为 ... 一种防塌边平面研磨工装的制作方法 - X技术网2023年11月17日本技术涉及工装治具，尤其涉及一种防塌边平面研磨工装。背景技术： 1、随着生活质量的不断提高，人们对电子产品的要求也在不断提高，其中不仅有功能上的要求，还有在外观上的要求。现有技术中，部分电子产品会存在盖板类的零件，为 ...

半导体晶片及其制造方法 - X技术网

2014年1月1日半导体晶片及其制造方法【专利摘要】本发明提供一种半导体晶片，其在研磨时于外周形成有塌边，其特征在于，在前述半导体晶片的中心与外周塌边开始位置之间，前述半导体晶片的厚度方向的位移量是100nm以下，且前述半导体晶片的中心是凸出的形状，前述半导体晶片的外周塌边量是100nm以下 ... 半导体晶片及其制造方法 - X技术网2014年1月1日半导体晶片及其制造方法【专利摘要】本发明提供一种半导体晶片，其在研磨时于外周形成有塌边，其特征在于，在前述半导体晶片的中心与外周塌边开始位置之间，前述半导体晶片的厚度方向的位移量是100nm以下，且前述半导体晶片的中心是凸出的形状，前述半导体晶片的外周塌边量是100nm以下 ...

模具抛光研磨用边角保护条抛光保护贴片利角防塌角边口保护 ...

阿里巴巴模具抛光研磨用边角保护条抛光保护贴片利角防塌角边口保护片条，锁具配件，这里云集了众多的供应商，采购商，制造商。这是模具抛光研磨用边角保护条抛光保护贴片利角防塌角边口保护片条的详细页面。加工定制:否，货号:AL-650739473841，适用范围:模具抛光研磨用边角保护条，材质 ... 模具抛光研磨用边角保护条抛光保护贴片利角防塌角边口保护 ...阿里巴巴模具抛光研磨用边角保护条抛光保护贴片利角防塌角边口保护片条，锁具配件，这里云集了众多的供应商，采购商，制造商。这是模具抛光研磨用边角保护条抛光保护贴片利角防塌角边口保护片条的详细页面。加工定制:否，货号:AL-650739473841，适用范围:模具抛光研磨用边角保护条，材质 ...

高精度平面工件精密研磨技术

2014年11月29日好像快刀、钝刀同时砍柴，导致工件表面坑坑洼洼，平面度和粗糙度显然不符合设计要求。在研磨过程中，由于受到磨削热的影响，发现余量设计得过大的工件，“塌边”现象较多并且平面度超差现象也较多。显然，研磨余量的增大，其结果只能增加废品率。高精度平面工件精密研磨技术2014年11月29日好像快刀、钝刀同时砍柴，导致工件表面坑坑洼洼，平面度和粗糙度显然不符合设计要求。在研磨过程中，由于受到磨削热的影响，发现余量设计得过大的工件，“塌边”现象较多并且平面度超差现象也较多。显然，研磨余量的增大，其结果只能增加废品率。

研磨塌边

研磨塌边 2022-06-24T21:06:07+00:00 一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法 [发明专利] 2019年4月2日步，在研磨机上加工平面结构的零件，确定塌边尺寸；第二步，根据零件非加工面结构及步确定的塌边尺寸确定外边框结构；所述的外边框的内边缘形状本文对双面研磨抛光中工件"塌边"这一问题 ... 研磨塌边研磨塌边 2022-06-24T21:06:07+00:00 一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法 [发明专利] 2019年4月2日步，在研磨机上加工平面结构的零件，确定塌边尺寸；第二步，根据零件非加工面结构及步确定的塌边尺寸确定外边框结构；所述的外边框的内边缘形状本文对双面研磨抛光中工件"塌边"这一问题 ...

一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法[发明专利]

专利名称：一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法专利类型：发明专利发明人：康仁科,潘博,郭江申请号：CN201811514 275.1 申请日：20181212 公开号：CN1095ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ1311A 公开日：201904 02 摘要：一种机械研磨或抛光过程中减小塌边 ... 一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法[发明专利]专利名称：一种机械研磨或抛光过程中减小塌边现象的方法专利类型：发明专利发明人：康仁科,潘博,郭江申请号：CN201811514 275.1 申请日：20181212 公开号：CN1095ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ1311A 公开日：201904 02 摘要：一种机械研磨或抛光过程中减小塌边 ...

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